簡要描述：下一代垂直Laue晶體定向系統(tǒng)有三種配置可供選擇——垂直、水平和顆粒圖——光子科學(xué)背反射Laue系統(tǒng)允許實時晶體定向，精度低至0.1度。單晶的電光特性強烈依賴于晶體取向。Laue工具從單晶中收集高分辨率的X射線衍射圖案，從而能夠以優(yōu)異的精度選擇正確的晶面。
產(chǎn)品型號： LAUESYS
所屬分類：晶體定向儀
更新時間：2024-12-17
從非線性光學(xué)到噴氣發(fā)動機渦輪葉片和超導(dǎo)材料，單晶材料在新型器件中發(fā)揮著重要作用。高分辨率晶體定向系統(tǒng)是捕獲和分析各種晶體材料的Laue衍射圖案的理想工具。
使用專用軟件，可以快速準確地測量單晶的取向
該系統(tǒng)在樣品上提供小于0.3mm的強X射線束。單晶的電光特性強烈依賴于晶體取向。
LAUE工具從單晶中收集高分辨率的X射線衍射圖，從中可以非常準確地選擇正確的晶面切割。
主要功能
有垂直、水平和顆粒貼圖配置
即插即用緊湊型機柜系統(tǒng)-無需定制工作臺或額外服務(wù)
全自動和電動XYZ平臺和測角儀，可提供手動選項
CCD背反射、高分辨率、高靈敏度x射線探測器
專有聚焦光學(xué)器件，提供較小的準直光束尺寸
使用機載高分辨率觀察相機快速精確地對準小晶體
用于精確和可重復(fù)樣品定位的距離測量工具
專門的Laue軟件用于全面控制、數(shù)據(jù)采集、處理和分析
高通量樣品篩選選項
垂直Laue配置
垂直Laue系統(tǒng)是最靈活的配置，它使用垂直光束路徑對隔離的多個晶體或多個感興趣的區(qū)域進行高通量掃描。使用重力，樣品不需要粘附在平臺上，從而更容易安裝和定向晶體。光束尺寸小于200µm時，可容納亞毫米范圍的樣品和渦輪合金等較大部件。
水平Laue配置
Laue系統(tǒng)也可采用傳統(tǒng)的水平幾何形狀。水平Laue系統(tǒng)非常適合定向晶體進行切割或快速掃描晶體以識別反射。
顆粒圖配置
一種垂直系統(tǒng)，具有特殊的相機、鏡頭、照明和繪圖軟件，用于測量每個顆粒的方向。Grain Map包括一個全電動XYZ載物臺和角度計作為標準，非常適合于硅片的晶粒映射。
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